据消息人士透露，中国科学家今年初在深圳一座高度保密的实验室，打造出一台极紫外光刻机（EUV）的原型机，目前正在测试阶段。

这对中国以及所有中国人而言，无疑是一个特大喜讯！

这台EUV原型机由荷兰半导体巨头阿斯麦（ASML）的前工程师团队，通过逆向工程开发而成，

这台高精尖设备目前已经可以运作并成功产生极紫外光这项被形容为中国的“曼哈顿计划”，目标是要让中国最终能够在完全自主研发的设备上制造先进晶片。

中国早就雄心勃勃计划在2028年前利用国产EUV生产出可用的3纳米芯片，现在这个目标已接近实现。

但接近这个项目的人士表示，国产EUV很可能要到2030年才能实现量产先进芯片，这仍比美国分析师预估所需的时间提前了7年。

用来制造尖端芯片的光刻机被誉为微电子工业“皇冠上的明珠”，而极紫外光刻机（EUV）更是明珠中的明珠，此前一直被荷兰的ASML所独家掌控。

为了遏制中国的高速发展势头，美国以长臂管辖要求荷兰禁止向中国出售EUV，这种设备可以生产3纳米的尖端芯片。

而3纳米的尖端芯片可以用于超级计算机、先进军用卫星、精密控制系统和各类可大幅提高运算水平的军用场合，外媒说就能大幅提升解放军的攻击能力。

在禁售EUV之后，中国只能购买相对低一个档次的深紫外光刻机（DUV），

这个型号最多能生产7纳米的芯片，与美国的水平就相差了两个档次——5纳米和3纳米。

中国是全世界工业制造门类最齐全的大国家，工业制造占据全球的近1/3，这样的超级工业强国怎能受此欺凌。

所以，中国必须奋起直追，尽快拥有国产的EUV，就像盾构机、高级碳纤维、高铁、海底光缆、核磁共振仪、心脏支架、工业机器人、石墨烯等那样在中国白菜化。

据外媒的报道说，中国迅速成立了类似当年美国的“曼哈顿”计划——举全国之力研发原子弹的超级行动，

而中国版的“曼哈顿”计划就是要投入5000亿元，集中全国顶尖科学家，尽快突破EUV的核心技术，

力争在2028年前实现3纳米以及更高技术芯片的国产化。

为此，中国集中了国内顶尖的科学家团队，

还征集了大批刚刚毕业相关专业的学生——中国很多新技术就是依赖这一勇于提出新设想的年轻人所提出的新思维而研发成功的，

又从全球各地招募了大批的前ASML工程师——包括一些退休的设计工程师、维护的工程师和安装调试的工程师，

在中国深圳集中进行攻关。功夫不负有心人，中国体制专干大事。

在今年初，一台国产EUV原型机终于问世，并已顺利产出极紫外光源。

剩下来的工作，就是调试，力争在国家规划的2028年前形成量产能力，这比美西方预测的2035年前快了几乎整整7年。

据说，国产EUV光刻机在光源、光学、精密控制三大领域实现关键突破，

但在光源技术上，中国至少有三种路径，包括基于粒子加速器的稳态微聚束(SSMB)技术，放电等离子体(DPP)技术以及类似ASML的激光等离子体(LPP)技术。

有了这些不同技术的光源以及其它光刻机技术，中国就能将国产EUV光刻机“白菜化”量产。

一旦国产EUV光刻机“白菜化”量产，ASML就能迅速破产，“芯片战争”就能立刻结束，中国就能成为全世界唯一一个光刻机生产国。

为此，《环球时报》特意为国产EUV问世刊发了一条重磅社论：中国科技进步，路透社本不必焦虑！实际上间接证实了国产EUV问世的传闻。

正如一位国外权威芯片专家所言，中国产EUV光刻机问世的“目标是让中国最终能够在完全自主研发的设备上制造先进晶片，

并且将美国全面踢出中国的供应链，让ASML从此找不到饭吃。”

（军评陈光文于2025.12.24）

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