拿到XPS测试数据以后，复杂的谱图和无数的峰感到无从下手？想知道表面究竟有哪些元素？化学态是否符合预期？

别急，本文华算科技不仅揭秘 XPS 背后的原理、谱图分析逻辑与数据拟合技巧，还附赠Avantage 软件下载指引，让你快速掌握XPS核心分析能力。

一、原理及特性

光电效应与结合能计算

爱因斯坦光电效应）经检测后，通过能量守恒推导电子结合能（EBEB−Wsp

hv为仪器功函数（固定值，由仪器校准）。具有元素 “”定性分析的核心依据1. 表面敏感性光电子强度Ⅰ=exp(−d/λ)

λ，反映表层信息2. 化学位移化学环境不同EB。例如：

S 元素中，硫化物（S²⁻）S 2p₃/₂约 161.5eV，硫酸盐（S⁶⁺）则高达 169eV。

价态升高（失电子），E增大；价态降低（得电子），E减小XPS 图谱包含基于理论的和依赖物理化学性质的（如）。同一元素会因激发多个轨道电子出现多组峰，，以 “” 标记（如 C1s、Al2p），是主要依据关注（）、（与表面元素浓度成正比）、（FWHM，常规高分辨窄扫图谱 FWHM 为 0.3~1.7eV，拟合建议控制在 0.5eV~2.5eV）需具备意识，并非所有出峰都来自待测元素，如 Zn 和 In 元素光电子信号可能干扰 Pb、Fe、Ti 的谱峰，可借助Avantage软件下载的谱峰干扰结合样品与全扫谱图定性判定谱峰归属。

三、如何分析XPS谱图

1. 全谱宽扫定性

素表面元素组成信息，匹配各元素特征结合能，确定元素种类，为后续窄扫分析奠定基础例如从全谱中可初步判断是否含 C、O、Mg、Si 等元素。

2. 高分辨窄扫化学态分析

特征轨道峰位校准干扰识别分峰拟合解析重叠峰混合化学态Avantage软件下载），选择 Linear背底扣除方法，设置拟合范围（去除非特征范围）、谱图移动范围（如 Max Shift 2.00eV）及步长精度（如 Step 0.020eV），对参考图谱进行微小平移优化，拟合后勾选目标峰进行定量分析。

3. 拟合参数优化要点

半高宽（FWHM）：一般控制在 0.5~2.5eV，建议优先控制在 0.5~2.0eV，避免过宽或过窄脱离样品物理化学意义，如 O1s 拟合中 FWHM 为 2.50eV 符合要求，3.25eV 因过宽不满足实际情况。

L/G 混合比：默认值可满足多数情况，若放开拟合，高斯分布占比建议控制在 20~50%，确保谱峰形状符合实际；拟合非对称峰时需同步优化Tail Mix、Tail Height、Tail Exponent等参数。

化学态命名：结合Avantage软件（XPS 分析的核心在于 “”，熟练掌握的，，可有效解决中的常见问题，为材料研究提供可靠的表面信息支撑。