众所周知，在光刻机上，我们的国产技术和国际顶尖水平，差距过于巨大，导致很多人都不太相信这个事实，说是假消息，主打一个“掩耳盗铃”。

不过，虽然光刻机技术相差巨大，但在与光刻机对应的另外一项核心技术上，我们却达到了全球顶尖水平，那就是刻蚀机。

先说技术这一块，国产刻蚀机的技术，早就达到了3nm，并且进入了台积电的供应链，据称台积电即将量产的2nm芯片生产线，也有国产的刻蚀机。

而国内刻蚀机最强的厂商，就是中微公司，一家由尹志尧博士于2004年回归创办的企业，短短20来看，就从0起步，做到全球顶尖。

不吹牛，从行业来看，中微的刻蚀机，是全球最顶尖的企业之一，不说比国外技术强多少，但至少是同一水平线的，并不落后，这也是为何美国不对中国禁售刻蚀机的原因，因为中国自己有，禁了毫无意义，反而影响到美国企业的销量了。

这几年，随着国产替代加速，国产刻蚀机本来就技术强，自然是大爆发了。

近日，中微的业绩数据显示，2025年营收124亿元左右，同比增长了36.62%，而净利润高达21.11亿元，同比增长了30.69%。

为何增长这么猛，中微自己就说了，因为刻蚀机设备获得了国内，国际客户的更多认可，很明显，不仅国内厂商在使用，国际厂商也开始采用了嘛。

值得一提的，中微公司不仅有刻蚀机，还有薄膜沉积设备（LPCVD/ALD），还有EPI（外延）设备和用于化合物半导体的MOCVD设备。

2025年，刻蚀机收入约98.32亿元，占比虽然高达80%左右，但像其它设备也有了约20%的收入，且增长非常快，像LPCVD/ALD增长了224.23%，接下来估计也会大爆发。

此外，中微表示，2025年的研发投入高达37.44亿元，同比增长52.65%，占营收比例超过30%，是国内所有芯片设备企业中，占比较高的，远超行业水平。

从中微的这些数据，可以看出来，并不是中国企业做不好芯片设备，只要肯努力，肯投入，敢于去拼，一样不比国外的差。

而只要其它芯片设备企业，也都像中微一样，达到了3nm，甚至2nm水平，那我们还怕什么卡脖子，那时候我们都有实力去卡美国的脖子了。