【据《The Information》报道，中国开始自主研发DUV芯片制造工具】
（路透社）——据《The Information》周一报道，中国已开始生产自主研发的浸没式深紫外光刻机，这种芯片制造的关键设备长期以来一直由荷兰供应商ASML（ASML.AS）主导。
该报道援引知情人士的话称，这些设备预计将于今年交付给中国领先的芯片制造商，包括中芯国际（0981.HK）、华虹半导体（688347.SS）以及长鑫存储。
ASML 拒绝就路透社的置评请求发表评论。该公司股价下跌逾 7%，有望创下自 6 月 8 日以来最差单日表现。
该报道还拖累了与全球芯片设备供应链相关的公司股价。BE Semiconductor Industries（BESI.AS）暴跌约8.5%，Soitec（SOIT.PA）下跌5%，而英飞凌科技（IFXGn.DE）跌幅近3%。
报道中的关键细节：
· 鉴于此事敏感，相关人士未透露这家由国家支持的制造商的名称。
· 这一突破最终可能对中国市场的ASML构成挑战，但该系统的性能和可靠性仍存在差距，在量产前还需要进一步测试，因此这家荷兰公司目前仍保持着优势。
· 初期产量将受到限制，今年约生产5台深紫外光刻机（DUV），2027年则增至约20台。
· 浸没式深紫外光刻机（DUV）可将电路图案刻印在硅片上，在限制措施切断中国芯片制造商获取极紫外光刻（EUV）系统渠道后，这是中国芯片制造商目前所能获得的最先进光刻设备。
· 中国也在研发国产EUV光刻机，不过目前仍处于原型机阶段。
· 随着美国考虑加强对向中国出口外国光刻设备及提供相关服务的限制，该技术或能为中国芯片制造商提供关键设备的替代来源。
