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中方反制见效，却让日本发现一个惊天秘密！日媒紧急呼吁：“全球70%的成熟制程订单正源源不断流向中国工厂，价格低到让我们怀疑人生！”美国把EUV光刻机当“核弹”使，中国却用28纳米“板砖”打他们一个措手不及！2025年以来，日本财经圈的焦虑感越来越浓，《日经亚洲》的一篇紧急报道直接点破了他们的担忧：原本以为跟着美国对中国半导体设备设限能稳住优势，没想到反而让全球芯片产业的话语权悄悄转移，大量成熟制程订单正扎堆涌向中国工厂。这份焦虑不是空穴来风。一位德国芯片设备商的亚洲销售总监透露的细节很直观，两年前全球领先企业的6英寸碳化硅晶圆还卖1500美元一片，现在中国供应商的报价能压到500美元以下。这样的价格优势，让不少海外企业在下单时毫不犹豫地转向了中国。谁都记得，美国从2019年就开始对中国半导体产业动手，后来干脆拉上日本、荷兰组团限制设备出口。在他们眼里，EUV光刻机就是制约中国的“核弹”，从14纳米以下先进制程设备到深紫外光刻机的关键参数，层层设卡，就是想卡住中国芯片产业的脖子。日本当时也跟着出台了清单，把23类半导体制造设备都纳入许可管理，从清洗机到测试仪，几乎覆盖了45纳米以上制程的全链条，7月实施后，不少日本企业不得不中断和中国客户的直接合作。荷兰的ASML也受政策影响，高端浸没式光刻机的对华交付大幅延迟，许可流程一卡就是好几个月。他们没料到，中国企业没在先进制程上死磕，反而转头深耕起了28纳米这类成熟制程。要知道，成熟制程在汽车电子、5G设备、物联网等领域需求量极大，市场空间一点不比先进制程小。中芯国际早早就定了“以量取胜”的路子，从2020年就开始加码扩产，北京厂加装国产蚀刻机，上海厂改造生产线提升产能。产能上来的同时，供应链的韧性也在增强。中国不仅扩大了成熟芯片的生产规模，还悄悄搭建起了完整的本土设备和材料生态系统，不再过度依赖海外供应商。这一点让台湾地区的复合芯片设备商高管都感慨，现在碳化硅领域的价格战里，大陆企业完全能靠本土产业链站稳脚跟。数据最有说服力。国际数据公司预估，到2025年中国成熟芯片产能将占到全球市场的28%左右，而国际半导体产业协会更预测，到2027年这个数字可能会涨到39%。2024年的海关数据也显示，中国本土生产芯片的份额已经从疫情前的15%左右提升到20%以上，进口芯片的金额增速明显放缓，贸易逆差正在缩小。更让日美企业头疼的是，中国成熟芯片的性价比优势正在挤压他们的市场空间。路透社就曾指出，国产28纳米芯片比进口产品便宜20%，再加上供应链稳定、交付及时，不少企业都开始优先选择本土供应商。就连之前在美国砸重金建厂的台积电，也转头回大陆扩产28纳米生产线，可此时中芯国际的产能已经稳稳占据了优势。美国原本想靠设备限制维持技术霸权，却意外倒逼中国完成了成熟制程产业链的重构。国家集成电路产业投资基金三期的启动，让上海微电子等本土企业有更多资金投入设备研发，一步步补齐短板。现在看来，那些被视为“落后”的成熟制程技术，反而成了中国芯片产业突围的关键。全球芯片市场的格局正在被重新改写，70%成熟制程订单流向中国的背后，是产业选择的必然结果。毕竟对于大多数行业来说，芯片不一定要追求最先进，稳定、便宜、供应有保障才是核心需求。这场芯片领域的博弈还在继续，中国用28纳米“板砖”走出的突围之路，让我们看到了产业链自主的力量。你觉得未来中国在成熟制程领域还能创造哪些突破？欢迎在评论区聊聊你的看法。

全球90%都是日本生产，一旦断供中国如何应对？为何别国无法生产麻烦看官们右上角点击一下“关注”，既方便您进行讨论和分享，又能给您带来不一样的参与感，感谢您的支持！你可能从没见过光刻胶长啥样，它既不像光刻机那样高冷巨大，也没有芯片那样精致闪亮，就是一瓶黏糊糊的化学液体，但如果哪一天，日本忽然说一句“不卖了”，中国不少晶圆厂的生产计划，可能像被按了急刹车一样，瞬间停摆，听着夸张，可这玩意儿真的不是“卡脖子”，而是“命门”。行业里人人都知道，光刻机固然难，但再贵、再复杂，它至少摆在那儿你能看见；光刻胶却像芯片里的暗影杀手，你不用，它躺着，你一换，它翻脸直接把你的产线良率从天上摔到地上。尤其是用在28nm以下工艺的高端光刻胶，技术难度大、参数刁钻，稍微差一点点，图形就糊成一片，日本几家企业，偏偏就在这个极难啃的领域，几十年如一日地深耕，把全球九成以上份额都握在手里。别国不是不想做，是压根做不出能用的。光刻胶的难，不是“怎么做”，而是“做了别人也不敢用”，一款新胶想进入产线，需要在光刻机上跑无数次测试，曝光剂量、旋涂厚度、烘烤温度、显影时间，一项项调，一项项试，运气不好，一次实验就是几片晶圆报废，成本像流水一样往外淌。有人说光刻胶是“材料界的洁癖狂”，一点点杂质，它都能用显微镜的精准来记仇。也正因为这样，早已形成惯性的光刻机厂商、晶圆厂，宁愿继续用旧方案，也不敢轻易换新胶。这就是日本的真正底气，它们并不是突然跳出来说“我最强”，而是在上世纪七八十年代就悄悄布局，那时候大家都忙着做芯片本身，而日本却反方向地扎进材料领域，一头钻进化学瓶瓶罐罐里不出来。跟光刻机厂商捆绑开发，设备每升级一代，材料也同步升级，客户买的是一整套体系，你想换供应商？没那么简单，这相当于让一座大厦重新打地基，代价巨大不说，风险更吓死人，靠着这种“体系锁定”，日本把这个看似不起眼的小市场，熬成了自己的护城河。中国当然不会甘心靠进口过日子，过去几年国产光刻胶一路从零摸索到能跑成熟制程。KrF光刻胶已能量产，ArF在28nm工艺上完成了验证，不过距离真正大规模商用，还有一段路要走，而EUV光刻胶这是芯片制造顶尖赛道里的皇冠，如今还基本依赖海外，一旦某个供应国“收紧阀门”，产线撑不了太久这是现实。但中国也不是没办法。有些动作很低调，却已经实施很久，国家层面的光刻胶储备，能覆盖三到六个月；重点项目、关键行业被优先保障供应，企业也没闲着，与韩国、美国的材料商建立第二供应链，让关键材料至少有“备胎”。更聪明的是，产业链内部开始重新分配“紧缺资源”：高端光刻胶优先给基础制程，让28nm等重要节点保持稳定；至于先进制程，则通过chiplet等架构创新，减少对最尖端光刻胶的依赖，不是最完美的解法，但能撑住阵脚。当然要想从根上解决问题，还得靠真正的技术突围。几乎所有人都意识到，光刻胶的核心不是一瓶配方，而是一个完整的上下游生态：树脂、单体、光酸、试剂、设备匹配、产线验证，每一样都离不开彼此。为此中国开始从上游原料到下游应用全面布局，从单体到树脂，从实验室到晶圆厂，整个链条都被发动起来，一些企业已经在原料层面突破了海外垄断；一些光刻胶产品被送进国内大厂试机；原先需要两年验证的周期，被压缩到一年甚至更短。科研机构、企业、设备商、晶圆厂开始坐在同一张桌子上，不再“各自为战”，而是整体协同。这一套打法，并不模仿谁，而是结合中国的优势重新走一遍路，韩国2019年被断供时，能在三年内实现关键材料自给率提升，是因为举国体系为单一目标全力奔跑；中国的优势在于更大的市场、更完整的产业链、更强的研发资源，只要各环节协同到位，速度也绝不会慢。更关键的是，技术范式正在改变，AI参与材料研发后，新配方筛选效率提升了一倍，过去半年才能推进的进度，现在一个月就能有结果，芯片结构也不再一味追求单一制程，更强调系统设计、架构创新，光刻胶也有新路线，比如金属氧化物体系，让后来者有了“换轨超车”的窗口。光刻胶之争，看似是一瓶化学品的较量，其实真正赌的是谁能先构建出新一代的产业体系，日本的优势来自五十年的深耕；中国的机会来自技术范式变动、供应链重塑和庞大的市场容量，一旦国产光刻胶在“能用”之外做到“好用”，芯片产业的话语权就会重新洗牌。到那时候，决定全球产线习惯的，不再是“谁最早发明”，而是“谁的体系更好、谁的市场更大”，一滴光刻胶背后，是一场没有硝烟的权力赛跑，看似门被别人锁住了，但中国正在做的，不是抢钥匙，而是在造一扇全新的门。对此，大家有什么看法呢？

中方反制见效，却让日本发现一个惊天秘密！日媒紧急呼吁：“全球70%的成熟制程订单正源源不断流向中国工厂，价格低到让我们怀疑人生！”美国把EUV光刻机当“核弹”使，中国却用28纳米“板砖”打他们一个措手不及！这个被业内叫“黄金节点”的技术，看着不惊艳，却是真刚需。你的智能冰箱要它，新能源汽车的中控屏要它，连医院的核磁共振仪都离不开它。全球每月近400万片的需求量，比高端芯片市场大出三倍还多。美国一门心思卡7纳米、5纳米，反倒把这块肥肉，直接推到了中国嘴边。中国企业压根没纠结EUV，转头就把28纳米“练到了满级”。中芯国际临港厂区的车间里，机器24小时连轴转，红色的“满产”指示灯就没灭过。2024年刚开年，他们就把28纳米月产能从4万片提到5万片，良率稳在92%这个数字，离台积电也就差口气。更狠的是配套，上海微电子的DUV光刻机直接送进车间，国产光刻胶、刻蚀机跟着补位，从硅片到成品，全链条不用看外人脸色。成本就这样降了下来。日本工厂买一台进口设备要花10亿日元，中国用国产设备能省三成；日本工人月薪折合人民币3万，中国工程师队伍更年轻高效，人力成本直接砍半。这么算下来，85美元的报价，中国工厂还能有利润，日本同行却只能赔本赚吆喝。日本半导体的“惨”，早不是一天两天了。这个曾经靠芯片赚得盆满钵满的国家，现在最拿得出手的还是28纳米，瑞萨的生产线甚至还在用十年前的老设备。急着翻盘的日本经济产业省，拉着IBM就想跳级搞2纳米技术，结果闹了笑话—连14纳米的门槛都没迈过去，直接冲2纳米，跟没打地基就盖摩天楼一个道理。反观中国，一步一个脚印踩得特实。先把28纳米做到“又好又便宜”，稳稳接住全球订单；再用DUV光刻机搞多重曝光，硬生生把7纳米芯片给做出来了。这种“先守后攻”的路子，让日本的“技术焦虑”彻底变成了“订单恐慌”。美国的封锁，反倒成了中国的“催熟剂”。年初的时候，中芯国际用DUV做7纳米芯片，良率才35%，不少人等着看笑话。可到了年中，良率直接飙到60%，成本降了两成多。连“浸润式光刻机之父”林本坚都忍不住夸：“别小看DUV，四重曝光下来，做5纳米都没问题。”现在美国再想挥EUV大棒，才发现打空了。中国的28纳米生产线，就像扎在全球产业链上的根，越扎越深。特斯拉上海工厂把车载芯片订单全给了中芯国际，理由是：“比日本供货快三周，成本省22%”；东南亚的代工厂也疯了似的转单，因为中国能“芯片+封装+测试”一站式搞定，不用他们跑断腿协调供应链。这哪是简单的订单转移？分明是全球半导体的“权力交接”。曾经，日本靠半导体垄断全球，现在却被中国用他们最擅长的“精细运营”打败；美国以为EUV是王牌，却忘了“板砖”才是建房子的根本。中芯国际已经放出话，到2030年，28纳米月产能要冲到20万片，到时候全球每七片成熟芯片里，就有一片来自中国。美国急得频频修改出口管制，日本喊着“要联合美国反制”，可订单还是哗哗往中国流。他们没搞懂，中国赢的不是价格战，是战略。现在再看日媒的“哀嚎”，才明白这场芯片博弈的关键，技术封锁从来不是终点，找准赛道踏实干，才能真正掌握主动权。中国28纳米的逆袭已经证明，所谓的“卡脖子”，不过是逼我们另辟蹊径的动力，下一次，当中国用DUV光刻机搞出5纳米芯片时，不知道美国和日本，又该喊什么了。

按照大家的常规理解，目前制造7nm及以下的芯片，必须用到EUV光刻机。因为很多人都认为，浸润式DUV光刻机，就算通过水的折射，等效于134nm的波长，但其理论极限大约在38nm左右的半节距，是搞不定不了7nm及5nm，甚至更先进的芯片...

一台EUV光刻机，有几十万个零件，但总的来讲，主要还是由三大核心部件组成，一是光源，二是物镜系统，三是工作台。而其它非EUV光刻机，也差不多，主要也是由这三部分组成的。说真的，在这三部分之中，有一个部分，可能被很多人...

之前大家都说，制造7nm以下的芯片，必须要用到EUV光刻机。而全球能够生产EUV光刻机的厂商就只有一家，那就是荷兰的ASML，所以EUV光刻机就是一个卖方市场，并不是买方市场。卖给谁，不卖给谁，卖多少钱，一定程度上而言，都是...

10月27日消息，我国首个EUV光刻胶标准—《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》作为拟立项标准。EUV光刻胶是最先进的光刻胶，主要应用于7nm及以下制程的集成电路制造，是实现先进逻辑芯片、高端存储芯片等微小化、高性能芯片生产的不...

第一代普通EUV光刻机，价格大约在1-1.5亿美元左右，而第二代High NA EUV，价格超过4亿美元。ASML计算的非常好，普通EUV用于7-3nm芯片的制造，然后当大家要生产2nm及以下的芯片时，就采购High NA EUV光刻机。这样ASML赚大钱，...

目前ASML的EUV光刻机，已经发展到了第二代，也就是NA=0.55的光刻机，也称之为High NA EUV。第一代是NA=0.33的EUV光刻机，而第三代，则是NA=0.77的光刻机，称之为Hyper NA EUV。不过这个第三代，还有没有，能不能推出，谁也没有...

荷兰光刻机巨头ASML表示，现在在美国的技术封锁下，中企想获取EUV光刻机几乎不可能了，但是中国一直没有放弃，研发投入每年增速超过20%。美国越是卡脖子，中国越不肯松劲，ASML说EUV光刻机难到中国手里，可咱们的研发投入一年...

观点网讯：10月16日消息，韩国三星电子宣布将投资1.1万亿韩元（约8.3亿美元）引进两台最新High-NA双级极紫外（EUV）光刻机，将用于半导体产品量产。首台设备预计年内到位，第二台将于2026年上半年安装。另悉，三星电子此前仅在...

一直以来，因为美国不准ASML销售EUV光刻机给中国，所以导致中国进入7nm以下的芯片工艺，非常困难，因为没有EUV光刻机。而美国也是靠限制ASML的EUV光刻机这一招，来卡住我们先进芯片制造的脖子的。但不曾想，中国开始反制，这下...

而进入7nm以下时，就必须使用EUV光刻机，全球仅ASML一家能够制造它，所以大家认为，ASML才是整个EUV光刻机体系中的技术老大。但事实上，ASML还真不是技术老大，ASML真正最厉害之处，并不是技术有多牛，而是整合，将全球最厉害...