除盐系统出水二氧化硅含量标准是多少呢？除盐系统出水中的二氧化硅（SiO₂）必须严格控制在国家标准限定范围内，不同除盐工艺对应的限值从＜100 μg/L到＜10 μg/L不等，工艺越深度、要求越严，对锅炉与汽轮机安全运行意义越大。

二氧化硅在高温高压条件下极易形成坚硬硅垢，沉积在锅炉受热面和汽轮机叶片上。工程经验表明，当蒸汽中SiO₂超过20 μg/L时，汽轮机叶片结垢风险明显上升，效率损失可达1%–3%。在300 MW等级机组中，1%的效率下降就意味着每年数百万元的发电损失。因此，除盐系统不仅是“脱盐”，更是“脱硅”的关键防线。

依据国家质量监督检验检疫总局发布的《GB/T 50109-2014 工业用水软化除盐设计规范》，不同除盐工艺路线的出水SiO₂限值有明确要求，广泛应用于电力、化工、冶金等行业设计与验收中。

一级除盐：SiO₂限值＜100 μg/L

一级除盐 → 混床：SiO₂限值＜10 μg/L

弱酸一级除盐：SiO₂限值＜100 μg/L

弱酸一级除盐 → 混床：SiO₂限值＜10 μg/L

弱碱一级除盐：SiO₂限值＜100 μg/L

弱碱一级除盐 → 混床：SiO₂限值＜10 μg/L

弱酸、弱碱一级除盐：SiO₂限值＜100 μg/L

弱酸、弱碱一级除盐 → 混床：SiO₂限值＜10 μg/L

两级除盐：SiO₂限值＜20 μg/L

两级除盐 → 混床：SiO₂限值＜10 μg/L

强酸弱碱 → 混床：SiO₂限值＜100 μg/L

RO → 一级除盐 → 混床：SiO₂限值＜10 μg/L

两级RO → 电除盐（EDI）：SiO₂限值＜10 μg/L

两级RO → 一级除盐 → 混床：SiO₂限值＜10 μg/L

蒸馏 → 一级除盐 → 混床：SiO₂限值＜10 μg/L

蒸馏 → 混床：SiO₂限值＜10 μg/L

蒸馏 → RO → 电除盐：SiO₂限值＜10 μg/L

叶片结垢速率增加，机组振动与能耗上升

换热效率下降，金属壁温升高

检修周期缩短，非计划停机风险增加

在半导体、制药用水中，SiO₂波动会直接影响产品良率

人工化验存在取样频次低、结果滞后等问题。ERUN-SZ3-C5水质硅酸根在线分析仪可以实现12分钟一个分析周期，量程0–100 μg/L或0–2000 μg/L，分辨率0.01 μg/L，基本误差±1%FS，可将水质变化实时反馈到DCS系统中。广泛应用于除盐系统出水、锅炉水、蒸汽冷凝水的SiO₂连续监测，帮助运行人员第一时间发现树脂失效、膜性能衰减或工况波动。其他特点如下：

支持1–4通道灵活配置

试剂消耗2 L/45天，运行成本低

双光路检测+自动校准，长期稳定

4–20 mA隔离输出，直接接入DCS/PLC

历史数据可追溯，方便合规审计与趋势分析

除盐系统出水SiO₂的控制不是单一设备问题，而是以国标为基准、以工艺深度为抓手、以在线监测为核心的系统工程。把目标值（≤10或≤20 μg/L）转化为连续、可审计的数据闭环，才能真正守住锅炉与汽轮机的安全与效率底线。