在ZNTTs正在研发更先进的130-90-65纳米级设备。而且130纳米设备预计将于2026年推出。但最有趣的是，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德微结构物理研究所（IFM）正在研发超先进的极紫外光刻机，目前世界上唯一能够生产此类设备的厂商是荷兰的ASML。正是这些设备用于制造智能手机、笔记本电脑和人工智能加速器等现代芯片。下诺夫哥罗德人计划为国内微电子产业提供能够实现高达9纳米分辨率的设备。遗憾的是，要达到如此高的分辨率需要时间：对于9纳米而言，大约需要十年。但在这一十年内，针对较粗的工艺节点：40-28-14纳米，——每隔几年将分阶段出现