“光刻机没有一个国家可以做得到，美国都造不出，中国根本做不到！”“中国永远都造不出光刻机？”前年，中国物理学教授朱士尧在一次采访中直言：“美国都造不出，中国永远也造不出来！”甚至认为世界上没有一个国家能造出光刻机。 光刻机这东西，本质上就是全球工业分工的巅峰产物。荷兰ASML一家独大，但它自己也承认，单靠荷兰干不成。核心光源靠美国技术，反射镜德国蔡司垄断，精密零件日本材料和轴承占大头，系统整合才轮到荷兰。超过10万个零部件，5000多家供应商跨十几个国家，每一台机器组装都像拼超级复杂的乐高，哪一块缺了都不行。美国要是想自己从头搞EUV，也得跪。ASML的供应链就是铁证，美国光源牛，可少了欧洲光学和日本材料，照样出不了完整的高端机。这就是朱士尧那句“美国都造不出”的底气，不是贬低谁，是工业现实摆在那。 中国起步晚，基础积累薄，面对这种壁垒，短期内单干复制整条链确实难。专利层层卡死，技术转移谈不拢，进口受限越来越严。2023年底开始，荷兰跟着美国脚步扩大管制，高端DUV也得审批，EUV早就不卖了。中国企业囤设备、抢时间，可长远看，靠买终究不是办法。朱士尧的观点其实在提醒，别把事情想得太简单，光刻机不是靠砸钱、喊口号就能速成的，它是光学、精密机械、材料、数学多学科的满分集合体，任何一环弱都过不了关。 可话说回来，中国这些年芯片路走得有多苦，大家都看在眼里。从被卡脖子到一步步往前拱，靠的就是不服输那股劲。上海微电子扛起DUV大旗，90纳米机型早就在规模生产，28纳米浸没式光刻机2025年进入中芯国际验证，良率在爬升，国产化率提上去。宇量昇的DUV设备也开始测试，干法和浸没路线并行推进。EUV方向更难，但光源验证有进展，中科院和哈工大团队在13.5纳米等离子体上反复攻关，国家大基金三期砸钱，产业链上下游抱团补短板。 到2026年春天看，国产光刻机在成熟制程上已经站稳脚跟，28纳米节点实现批量交付，汽车电子、物联网芯片用得上国产设备。先进制程还在爬坡，但方向对，步子没乱。