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阿斯麦CEO表示,中国光刻机技术落后10-15年,如果没有我们的EUV极紫外刻帮

阿斯麦CEO表示,中国光刻机技术落后10-15年,如果没有我们的EUV极紫外刻帮助,中国几乎不能造出来3-5nm工艺,同时表示断供EUV,就是为了防止中国获得先进技术。 说白了,阿斯麦CEO这一番话,与其说是炫耀自己的技术霸权,不如说是赤裸裸的怕了,怕中国光刻机真的追上来,砸了他们的垄断饭碗、断了他们的暴利路子。 网上阿斯麦CEO的表态刷爆了科技圈,语气里满是傲慢,直言中国光刻机技术至少落后他们10到15年,还放话说要是没有阿斯麦的EUV极紫外光刻设备帮忙,中国想造出3-5nm工艺的芯片,几乎是天方夜谭。 而他们之所以要断供EUV,核心目的就是死死卡住中国先进技术的脖子,不让我们有突破的机会。 其实稍微琢磨一下就懂一个道理,要是我们真的对阿斯麦造不成半点威胁,他们犯得着费这么大劲,专门站出来贬低我们、给我们下结论吗? 要知道,以前阿斯麦的口气可比现在硬多了,直言不讳说就算把EUV的设计图纸摆在中国人面前,我们也造不出来,那时候的他们,看我们的眼神里全是不屑,根本没把我们的研发能力放在眼里。 可现在呢?不仅频频喊话,还主动搞断供,这不就是典型的“替我们操心”吗?而这种操心的背后,恰恰是我们的进步已经让他们感受到了彻骨的威胁,他们怕再不下手,就再也拦不住我们了。 可能有人会被阿斯麦的话唬住,但其实没必要,中国的底气从来都不是靠别人给的。 咱们国家体量大、市场需求足,更重要的是,我们有能力同时探索多种光刻机技术路线,不用像其他国家那样束手束脚,赌一条路线成败。 现在我们不仅在传统EUV路线上稳步推进,据说哈工大在13.5nm极紫外光源上有了突破,清华大学的SSMB-EUV创新路线也在推进,就连纳米压印、电子束光刻这些非传统路线,我们也走在了前面。 杭州璞璘科技已经交付了线宽小于10nm的纳米压印光刻机,浙江大学的“羲之”电子束光刻设备精度更是达到了0.6纳米。 说到底,光刻机再精密、再复杂,也只是人造的,不是神造的,难度再大,也阻止不了中国人前进的步伐。 阿斯麦之所以能垄断EUV市场,不过是早起步几年,整合了全球的供应链而已,并不是他们拥有不可逾越的神技。 回想一下,以前西方垄断的很多先进装备,比如高铁、光伏设备,一开始也都对我们卡脖子、说狠话,可最后呢?还不是被我们一步步攻克,卷成了白菜价,彻底淘汰了他们的垄断地位,光刻机也一样,这只是我们前进路上的一块绊脚石,不是拦路虎。 阿斯麦说我们落后10-15年,没关系,我们不怕落后,就怕不敢追赶,10年时间,在科技研发领域不算长,只要我们稳步推进、持续投入,协同产业链一起发力,这块硬骨头,我们必然能啃下来。 我们的光刻机,一定也必然会搞出来,而且等到我们真正实现突破的那一天,一定会像打破其他西方技术垄断一样,让EUV不再是高高在上的奢侈品,卷成白菜价,彻底打破阿斯麦的垄断,让他们为今天的傲慢和断供付出代价。 本文仅代表个人看法,不构成任何技术评价,大家觉得我们能在10年内攻克光刻机技术、打破阿斯麦垄断吗?欢迎在评论区留下你的观点。

评论列表

用户10xxx44
用户10xxx44 2
2026-02-04 15:33
追上十年后的他们还是十年后追上现在的他们?
伊洛
伊洛
2026-02-04 08:21
芯片折扇化或波纹瓦化,同一尺寸下增表面积、增扩元件模块数量、增散热表面积,有利于模块空中搭立交桥两减少线路长度。