投资者提问：

请问公司现在针对存储芯片专门研制的ALD设备是用的臭氧路径吗？臭氧路径有什么优势呢？

董秘回答(微导纳米SH688147)：

尊敬的投资者您好！在ALD设备中，水蒸气与臭氧均可作为氧源。公司出厂的设备能够为客户提供多种配置选择，实际运行中客户会根据成本、稳定性、工艺控制等因素决定具体采用的工艺路线。感谢您的关注！