光刻机未来会被什么技术取代，目前有不少猜测。英特尔董事称蚀刻技术或将取代光刻，成为芯片制造核心，未来重点可能从依赖光刻机缩小特征尺寸，转向更关键的刻蚀工艺。 另外，北大团队曝光的模拟矩阵计算芯片也备受关注。中国被光刻机卡脖子多年，市场预测突破还需5 - 10年。而模拟计算芯片早在上世纪60年代就已出现，它用电压、电流等物理量计算，若发展成熟，或许能绕开光刻机限制。不过，这些技术要完全取代光刻机，还有很长的路要走。