西方最近热炒一个话题,称中国正在秘密推进一项“曼哈顿计划”——动员600万科研人员攻坚EUV光刻机,并称已在深圳实验室成功产生极紫外光,实现核心技术突破。尽管他们描述得言之凿凿,国内官方却异常沉默,几乎没有主流媒体跟进,只有自媒体在转述讨论。 很多人都纳闷,这事儿到底是真是假?为啥官方不出来说句话? 西方热炒的这套说法,其实仔细扒一扒就有不少漏洞。 他们特意提了个华裔前阿斯麦工程师,说人家离职后中国就搞出了突破,暗示是“技术泄密”,这就是典型的断章取义。 懂行的都知道,EUV光刻机有10万多个零件,精度要校准到纳米级,想靠逆向工程复制根本不现实,《芯片战争》作者都直言,等逆向完人家技术都迭代两三代了。 而且所谓“600万科研人员”也纯属夸张,半导体攻关确实集结了不少人才,但这个数字明显是为了制造“中国威胁论”故意渲染的。 西方这么干,核心是三种心态在作祟:一是酸葡萄,阿斯麦垄断全球EUV市场这么多年,压根不愿相信咱们能靠自己突破; 二是以己度人,他们当年就是靠抢技术、挖人才发展起来的,总觉得别人也会这么干;三是焦虑,现在全球科技竞争就看中美,欧洲在多个领域被边缘化,炒作中国能找点自我安慰。 再看国内官方的沉默,这可不是没话说,反而更像是“深思熟虑后的冷静”。 技术突破的真实性有待验证,就算深圳实验室真产生了极紫外光,也只是EUV研发的第一步。 EUV光刻机研发要过光源、光学系统、整机调试等多道关,现在顶多算完成了基础验证,离能造芯片的原型机还有距离,更别说量产了。 官方要是现在就高调宣布,万一后续进展不如预期,反而会被打脸,不如等技术成熟到一定阶段再发声。 这也是为了避免被西方“带节奏”。西方炒作这事儿,本质是想把中国塑造成“知识产权窃贼”,还想倒逼他们自己的政府加强技术封锁。 要是咱们官方主动回应,不管是承认还是否认,都等于掉进了他们的舆论陷阱,反而让这个虚假话题更有热度。 与其跟他们掰扯,不如闷头搞研发,毕竟历史早就证明,越封锁越能激发咱们的斗志,当年两弹一星是这样,现在半导体攻关也是如此。 还有个现实原因是“避免打乱产业节奏”。半导体产业链特别复杂,EUV光刻机涉及全球5000多家供应商,咱们的攻关是全产业链协同发力,需要稳定的环境。 现在很多环节还在磨合,官方过早表态可能会影响企业间的合作节奏,也可能让市场产生不切实际的预期,反而不利于研发推进。深圳搞的“揭榜挂帅”“赛马制”这些模式,本身就是低调务实的攻坚方式,不适合搞舆论炒作。 其实大家不用急着要官方表态,自媒体传的那些消息,大多是对西方报道的转述,真实性要打个问号。 看看已知的事实:上海微电子的DUV光刻机已经有突破,长春光机所搞定了光学反射镜替代产品,清华大学也有了新型光源方案,这些都是实实在在的进展。但这些进展都是一步步积累来的,不是靠“大新闻”炒出来的。 西方热炒是为了自己的舆论和政治目的,而咱们官方沉默,是因为科研攻关需要沉下心来,不是靠喊口号。 等哪天真正实现量产突破了,不用官方多说,市场自然会给出答案。现在最该做的,就是给科研人员多点耐心,少点舆论干扰,毕竟真本事不是炒出来的,是干出来的。
