关于中国目前能量产几纳米芯片，各方观点不一。芯片分析师认为，中国芯片技术超越了7nm，但无法突破5nm。三年前“7nm量产”新闻引发热议，如今所谓N+3工艺顶多算6nm加强版，本质还是基于DUV光刻机。而台积电、三星用EUV已做到5nm甚至3nm。不过，“光刻机之父”林本坚称中国现有设备能造出5nm芯片。林本坚在光刻领域造诣深厚，浸没式技术就是他的成果。所以中国芯片量产水平或许还有潜力可挖，未来值得期待。