今天，市场整体走的比较一般，早盘三大指数一度集体翻红，创业板指更是一度大涨超1%，但午后均出现明显回落。
而且个股表现却明显分化，全市场近3900只个股下跌，这是近期首次出现近4000家个股下跌，值得大家留个心眼。
后续我们要去跟踪一下市场风格是否会发生变化。
盘面看，光刻机、光刻胶今天的表现整体不错。
消息面上，英特尔近日宣布与ASML完成首台量产型High NA EUV光刻机EXE:5200B的验收。
根据公开数据，High NA EUV光刻机其吞吐量高达每小时175片晶圆，套刻精度提升至0.7纳米，标志着2纳米以下先进制程芯片制造迈出关键一步。
与此同时，AI热潮带动高带宽存储需求激增。
据TECHCET预测，HBM单位比特所需的晶圆面积是传统DRAM的三倍以上，直接推高了对光刻胶等半导体材料的消耗。
从产业链上来看，光刻机作为晶圆制造中最核心、最昂贵的设备之一，目前高端光刻机的国产化率仍不足5%。
但在光学系统、光源、双工件台等关键环节，国内企业已取得实质性技术突破，国产化进程有望显著提速。
而作为今年逆势走强的科技板块，大家或者可以跟踪关注起来。
电池与储能除了半导体科技方向，今天电池及能源金属方向同样表现亮眼。
今日上市的新股纳百川成为全场焦点，盘中多次触发临停，最终收盘涨超400%。
公司主营产品涵盖电池液冷板、电池集成箱体，以及传统燃油车的散热与加热系统，精准切入当前高景气的新能源与热管理赛道。
虽然近期新股市场情绪比较好，但是从产业基本面来看，随着多地陆续出台容量电价、峰谷套利等支持政策，根据机构测算，部分储能项目静态IRR可达中高个位数，提升了市场对项目投资热情。
而在海外，AI数据中心建设如火如荼，电力供应日益紧张，“缺电”正成为继“缺芯”之后的新瓶颈之一。
液冷近期谷歌新一代TPUv7单芯片功耗飙升至惊人的980W。功耗的急剧上升直接驱动其机柜散热方案发生根本性变革——采用100%全液冷架构。
另外随着英伟达GB300放量及后续Vera Rubin平台的加速落地，液冷产业正经历关键的阶段转换。
在此背景下，高效节能的液冷技术或有望迎来爆发窗口。
液冷板块龙头个股涨停，市值一举突破千亿元，也点燃市场的关注度。
叠加国内外大厂也均开始大力推动数据中心液冷方案，对于液冷中价值量高、核心卡位的环节或者值得我们关注。
写在最后当下资金或许正加速向具备产业趋势支撑的细分领域聚集。
在这种背景下啊，那些举办技术突破、订单可见度高、且具备全球竞争力的公司，或许值得我们研究起来。
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