国产EUV光源2026年10月14日，朗道燧岩在第26届工博会上首次公开展示国产化率90%的EUV光源样机，是目前公开进度最靠前的国产样机，标志着国产高端光刻机“心脏”迈出产业化关键一步，但距离工业级量产仍需跨越巨大工程鸿沟。朗道燧岩展示的FlintNano LPP-OXXO低功率EUV光源系统样机国产化率达90%，驱动激光功率1000W，EUV能量输出大于15W，持续工作时间超100小时。已可用于芯片曝光测试，低功率产品处于产品化阶段，高功率系列完成原理论证。采用与国际巨头ASML一致的LPP（激光等离子体）技术路线，直面主流且最艰难的技术路径。EUV光源是7nm及以下先进制程三大核心部件之一，长期受海外垄断，此次亮相实现了从纯理论探索到工程验证的“从0到1”跨越。商用EUV要求光源功率达数百瓦级，样机15W的输出仍有数量级差距，且能量稳定度远不及工业级红线。现场工作人员坦言，距离真正量产仍需3至5年，需解决功率提升、长期运行稳定性及系统集成等工程难题。每天进步一点点，继续加油