在还原气氛中执行等离子体氮化以将二氧化硅层转变为氧氮化硅层(110A)。
提出了一种基于流态化技术,利用硅粉直接氮化制备氮化硅粉的新工艺。
主要考察了氮化温度和氮气流量对缓冲层生长的影响。
提出了在高温和静态氮气氛下利用金属与氮气直接反应制取金属氮化物的合成方法。
研究了氧化铝球磨对碳热还原反应合成氮化铝的作用。
激光脉冲起着熔化钛表面和激活氮的作用,导致钛的液相氮化。
大气气氛下Ti表面激光氮化及其温度场的计算
碳热还原法合成氮化铝的机理与热力学条件
氮化铝陶瓷基片碳热还原低成本制备技术研究
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氮化油管工艺危害识别及液氨槽事故树分析
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氮气氛中高温热处理硅片表面的直接氮化
温度对离子渗氮渗层厚度及表面硬度的影响
高岭土碳热还原氮化制备Sialon粉末的反应过程研究
HZSM-5的氮化及其在乙苯与乙醇烷基化反应中的应用
激光局部氮化改善取向硅钢磁畴结构分布
高岭土在碳热还原氮化过程中的相变