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碳化硅基片的制备工艺A. 原材料选择与处理碳化硅基片的制备始于高纯度碳和硅的选择与纯化。这些原材料的质量直接影响最终基片
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溅射靶材在锂电池中的应用1. 溅射靶材在正极材料中的应用锂电池的正极材料直接决定了其容量、寿命和安全性,因此,选择合适的
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硅铝靶材真空镀出的颜色种类具体说明硅铝靶材在真空镀膜工艺下形成的薄膜颜色种类丰富多样,具体表现受到多种因素的影响,包括薄
1. 硅靶镀膜的基本原理1.A 硅靶材质的选择与制备硅靶材质的选择与制备是镀膜过程中的关键步骤。高纯度硅是镀膜靶材的首选
一、硅铝靶材的喷涂技术A. 热喷涂技术1. 原理与设备热喷涂技术是一种利用高温热源(如燃烧火焰、电弧、等离子弧等)将喷涂
单面与双面镀膜的比较在选择氮化硅镀膜工艺时,单面镀膜和双面镀膜各具特点,需要从多个方面进行详细比较。这些方面包括机械应力
第一章:氮化硅镀膜的基本原理A. 氮化硅的化学成分与晶体结构氮化硅(Si₃N₄)是一种重要的化合物,由硅和氮组成。其分子
一、金属靶材金属靶材因其优异的导电性、机械性能和耐腐蚀性在镀膜技术中占据重要地位,主要包括贵金属靶材、过渡金属靶材和稀有
签名:靶材与镀膜解决方案,为科技创新赋能