图7.9显示了一个设备截面图和对中医的平坦化应用进程。
这些组合物也可用于平面化薄膜晶体管和其它电子器件所用的不锈钢箔中。
步骤3，平坦化蚀刻，在接触窗侧壁形成一层绝缘体薄膜。
作者尝试去开发一种新型的整平化技术过程中，在接下来的PCB制造前使用了抛光工艺。
既然如此，裸硅晶片的CMP平坦化抛光对已取得进展或LSI器件中医。
马奈的《草地上的午餐》在写实的同时含有奇妙的装饰效果。（三）平面化。
该牺牲层是通过例如化学机械平面化的蚀刻工艺除去的。
1·The use of different barrier slurries for copper chemical mechanical planarization CMP creates a challenge for post-CMP cleaning.
铜化学机械平面化不同阻挡层浆料的应用引起了铜CMP后清洗的问题。
2·The sacrificial layer is removed through an etching process such as chemical mechanical planarization.
该牺牲层是通过例如化学机械平面化的蚀刻工艺除去的。