1980年代晚期，半导体工业开始使用三氟化氮作为更环保的代替物来清洁制造芯片的机器。
三氟化氮（NF3）是有毒、无色、无嗅、不可燃的氧化性压缩气体。
一些公司选择了接受三氟化氮的替代品来解决这个问题。
大气中三氟化氮的浓度大约为0.5万亿分之一（ppt），使得它很难测定。
三氟化氮（NF3）主要被半导体工业用于清洗制造硅芯片的工作舱。
空气化工产品公司宣称全球的三氟化氮产量已经达到7300公吨。
他发现2006年中有大约563公吨的三氟化氮被排放。
色谱-质谱联用法测定三氟化氮中痕量六氟化硫
三氟化氮制备方法概述
三氟化氮纯化方法进展